钛基镀铂的技术现状及应用
1钛基镀铂的电镀工艺
钛基电剧镀铂的工艺流程为： 预处理钛片→电净→水洗→活化→蒸馏水洗→电刷镀铂→蒸馏水洗→吹干。
1.1钛基预处理
目前，镀铂溶液种类繁多，在不少基体上都可进行电镀铂，但在钛基上镀铂比较困难。这是因为钛是一种极易钝化的金属，表面钝化膜使镀层与基体不能紧密结合，难以获得结合良好的镀层，必须进行前处理，除掉钝化膜，使钛表面生成一层活性膜—— 氢化钛膜，氢化钛与钛基体和镀层之间形成一定的金属键，从而保证钛基体与镀层结合良好 。
1.1.1侵蚀工艺
侵蚀的目的在于除去钛表面的钝化膜，一般在浓度较高的硝酸——氢氟酸体系中进行。温度为室温，时间为5 min～10 min，侵蚀液的配比：HF(40%)，50 ml/L～ 70 ml/L；HNO3(65%)，50 ml/L～ 100 ml/L；H2O2(30%)，100 ml/L～ 200 ml/L。
1.1.2活化工艺
活化的目的是在钛材表面生成活性膜 。钛材经活化处理后得到的活性膜为氢化钛(TiH2)，呈灰黑色，在基体钛、氢化钛和镀层金属中，各自形成的能带， 由于其能量相近，发生了能量重迭，形成了准金属键，从而得到结合良好的镀层。经活化处理后的钛片方可放入镀液中进行镀铂。
1.2电镀工艺
1.2.1水溶液电镀
水溶液电镀铂是目前应用较多的铂复合方法。它的溶液种类主要分酸性和碱性两大类，碱性镀铂溶液有：以二亚硝酸二氨铂为主盐即P盐镀铂溶液，以六羟基铂酸钾为主盐的强碱性镀铂溶液等。酸性镀铂溶液有氨基磺酸型镀铂溶液和硫酸盐DNS镀铂溶液等 。
(1)氨基磺酸型镀铂液的操作条件为铂(以P盐计)10～20 g/L，电流密度100～500A/m2，氨基磺酸50～100 g/L，pH<2，温度60～80℃。P盐为主盐，氨基磺酸为络合剂，能提高阴极极化，使镀层结晶细致光亮。从此类镀液可获得光亮厚铂层。
(2)DNS镀液是一种强酸性新型镀液，此种铂盐溶液能镀厚铂，镀层表面光亮，可以在各种基材上电镀。它的操作条件为：H2Pt(NO2)2SO4(以铂计)5～20 g/L，电流密度50～300 A/m2 ，硫酸调节pH<2，温度30～70℃ 从此类镀液可以获得光亮较厚的镀层，且操作温度低，电镀过程不会析出气体，不会给镀层造成针孔和疏孔的危险，电镀过程需要搅拌。但此类镀液电流效率低，主盐二硝基硫酸铂的制备也较P盐要麻烦。
1.2.2熔盐电镀
熔盐镀铂是从本世纪30年代开始的。在熔融氰化物槽中，难熔金属表面的钝化膜可能被溶解， 时电解质中不存在氧成分，故基体和镀层结合较牢，镀层是可延性和没有应力的。熔盐电解质制备方法是:将53%的氰化钠和47%的氰化钾首先置于陶瓷坩埚中预烧熔，待温度高于熔点50℃时(550℃)，将两块铂电极插入熔体中并通电，当铂离子浓度约0.3%时，便可电镀。阴极电流密度为30～300 A/m2，电流效率65%～98% 。除了熔样时呵暴露在空气中，其余时间一律用氩气保护。因电镀时．阳极电流效率一般高于阴极电流效率，应定时添加氰化物熔盐以维持电解液有效成分的基本稳定。采用碱金属氰化物熔盐作为电解质镀铂是成功的，可以得到厚的光亮的无应力铂镀层，但这种工艺复杂，操作环境差，费用较大，难于镀大面积镀件。
1.2.3刷镀
刷镀的雏型是l899年时作为槽外补镀工艺出现在欧洲的，当时为了补救槽镀出现的局部缺陷，用阳极包上棉布，蘸上镀液，在缺陷部位上通电来回擦拭，补镀上一层金属，从而修复了槽镀的次品。这样的刷镀无疑是沉积速度馒，结合力差，镀层亦薄，经过近半个世纪的研究和发展，在研制成功了专用的镀笔、带安培小时计的刷镀电源，金属离子浓度很高的刷镀液后，刷镀才作为一种独立的电化学沉积方法得到广泛应用。
刷镀的慌点刷镀主要的优点在于：（1）刷镀液的金属离子浓度高．镀层的沉积速度快，约为一般槽镀的1～15倍。（2）)刷镀层的基舱性小，硬度高，孔隙牢小，镀层厚度可控制，镀后一般不需再机加工。（3）设备简单，操作客易，可在现场宴现不全拆的局部镀覆由千刷镀具备了以上的优点，使其更多地应用于修复磨损或机加工尺寸超差的零件，而作为装饰性的镀覆应用得较少．
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